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NIPH系列整體式桿架底座說明:NIPH(NewInchPostHolder)系列整體式英制桿架底座,是卓立漢光“N系列”新型調整架中的一個系列產品。特點:?結構緊湊:桿架和底座集成在一起,可以節約更多空間,安裝更快捷;?安裝方便:底座可以旋轉,帶有微磁性,調整更方便;?穩定的鎖緊:M5銅質鎖緊螺釘,帶有滾花和鎖緊孔,使用L型扳手鎖緊,鎖緊時力量請適中;?系列化豐富:長度為25mm、40mm、50mm、75mm、100mm和150mm、裝卡直徑12.7mm。選型表:尺寸圖
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NCM系列三維可調節V型調整架說明:NCM(NewCylindricalV-ClampMount:)系列三維可調V型調整架,專門為夾持圓柱體光學元件,激光器,和光纖準直器等設計。選型表:尺寸圖:
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NCC(NewCylindricalV-Clamp:)系列V型調整架,專門為夾持圓柱型光學器件設計,可以夾持梯度折射率透鏡,激光器,光纖準直器等。特點:?通用性強:可以夾持多種圓柱體光學器件,直徑4-50毫米之間;?穩定性高:采用壓臂和V型槽的結構,與圓柱體3點接觸更加穩定;?特殊工藝:切縫壓緊鎖緊機構,保證裝卡后有足夠的鎖緊力;?安裝方便:可以直接用接桿連接,NCC50底板上有安裝沉孔,也可以直接固定在光學平臺上。尺寸圖
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傳統的C-T結構光譜儀通常采用球面鏡作為成像元件,由于入射光并非理想的點光源信號(實際為長方形或正方形光斑,取決于狹縫開口形狀)而導致大部門信號光處于離軸狀態,離軸信號成像一方面會有慧差,另一方面離軸信號光通過成像光路后,在焦平面上匯聚于空間上不同的位置,且兩個方位互相垂直形成一個短交線,這種現象稱為像散,慧差和像散將會導致成像模糊而使得光譜儀的光學性能受到較大的影響。卓立漢光經過長期研發和設計,解決了傳統球面鏡成像造成的像差較大的問題,通過采用非球面鏡進行影像校正。影像校正...
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光柵光譜儀的光柵方程反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細的刻槽,一系列平行刻槽的間隔與波長相當,光柵表面涂上一層高反射率金屬膜。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產生衍射和干涉。對某波長,在大多數方向消失,只在一定的有限方向出現,這些方向確定了衍射級次。如圖所示,光柵刻槽垂直輻射入射平面,輻射與光柵法線入射角為α,衍射角為β,衍射級次為m,d為刻槽間距,在下述條件下得到干涉的大值:mλ=d(sinα+sinβ)。定義φ為入射光線與衍射光線夾角的一半,即φ=(α-β)/2;θ...
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光柵單色儀重要參數:分辨率光柵單色儀的分辨率R是分開兩條臨近譜線能力的度量,根據羅蘭判據為:R=λ/Δλ光柵光譜儀中有實際意義的定義是測量單個譜線的半高寬(FWHM)。實際上,分辨率依賴于光柵的分辨本領、系統的有效焦長、設定的狹縫寬度、系統的光學像差以及其它參數。R∝M·F/WM-光柵線數F-譜儀焦距W-狹縫寬度色散光柵光譜儀的色散決定其分開波長的能力。光譜儀的倒線色散可計算得到:沿單色儀的焦平面改變距離χ引起波長λ的變化,即:Δλ/Δχ=dcosβ/mF這里d、β、F分別是...
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關于光柵光柵作為重要的分光器件,它的選擇與性能直接影響整個系統性能。光柵分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成;復制光柵是用母光柵復制而成。典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽。刻劃光柵具有衍射效率高的特點,全息光柵光譜范圍廣,雜散光低,且可作到高光譜分辨率。如何選擇光柵選擇光柵主要考慮如下因素:1、光柵刻線,光柵刻線多少直接關系到光譜分辨率,刻線多光譜分辨率高,刻線少光譜...
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什么是光譜儀?根據光與物質相互作用引起物質原子、分子內部量子化能級之間的躍遷產生的發射、吸收、散射波長或強度變化,檢測并處理這類變化的儀器被稱為光譜儀。因此,光譜儀的基本功能,就是將復色光在空間上按照不同的波長分離/延展開來,配合各種光電儀器附件得到波長成分及各波長成分的強度等原始信息以供后續處理分析使用。光譜分析方法作為一種重要的分析手段,在科研、生產、質控等方面,都發揮著大的作用。而無論是穿透吸收光譜,還是熒光光譜,拉曼光譜等,如何獲得單波長輻射(單色光)是*的手段。現代...
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