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微區(qū)-磁光克爾效應測試系統(tǒng)
產(chǎn)品概述
磁光克爾測量技術主要通過探測光和磁性樣品相互作用后反射光的偏振態(tài)變化來研究材料的磁性，在超快磁光存儲領域有重要應用，磁光克爾測量技術是一種無接觸光學測量技術， 在單原子層微小樣品測量方面*具優(yōu)勢，實現(xiàn)PPMS和SQUID無法完成的測量。微區(qū)磁光克爾系統(tǒng)是基于磁光克爾效應的非接觸、非破壞可直接觀測磁性材料和器件中的磁化狀態(tài)的光學顯微成像設備，用于清晰直觀了解樣品內(nèi)的磁化狀態(tài)空間分布和時間演化。
北京卓立漢光儀器有限公司全新推出微區(qū)磁光克爾及磁圓二色測試系統(tǒng)，可根據(jù)用戶需求提供定制化解決方案，產(chǎn)品范圍涵蓋微區(qū)磁光克爾系統(tǒng)和磁圓二色測試系統(tǒng)，并可根據(jù)用戶需求升級拓展拉曼，熒光，熒光壽命及二次諧波（可選配電控偏振）等模塊，可用于檢測樣品表面磁性和磁疇結(jié)構(gòu)，適用于磁性材料、二維鐵磁材料和自旋電子器件等應用領域。
非接觸，非破壞
波長，偏振態(tài)，角度分辨
微區(qū)測量
磁疇成像
系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
磁光克爾顯微成像測試系統(tǒng)使用多路鎖相，同步采集，大幅抑制激光功率波動噪聲。配置無磁反射式物鏡或單個非球面鏡成像，極低的法拉第效應。使用光彈調(diào)制器，同步獲得MOKE與RMCD數(shù)據(jù)。產(chǎn)品從空間配置與鍍膜參數(shù)嚴格設計及檢測的光學元件組，保偏性能*佳。
主要配置清單
模塊 | 參數(shù) |
主體架構(gòu) | 主體尺寸：長 × 寬 × 高，約 600 mm × 600 mm × 550 mm; |
顯微成像模塊 | 尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm； |
MOKE&RMCD模塊 | 外殼尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm； |
Raman532&PL&SHG模塊 | 外殼尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm； |
532nm窄線寬激光器 | 中心波長：532nm+/-0.1 |
軟件 | MOKE，RMCD，Raman，PL 掃描成像； |
典型光路原理：
模塊化軟件界面：
可編程自動化運行界面：
典型數(shù)據(jù)和論文：
面掃描，磁疇成像，器件成像
本系統(tǒng)已發(fā)表論文：
[1] Huang X, et al. Nature Communications, 14(1): 2190.( 2023)
[2] Chen X, et al. Adv. Sci. 10, 2207617.( 2023)
[3] Dai H, et al. [J]. ACS nano, 16(8): 12437-12444.( 2022)
[4] Dai H, et al. [J]. ACS Appl. Mater. Interfaces 2021, 13, 24314?24320
[5] Zhang L, et al. Adv. Mater. 2020, 32, 2002032
[6] Wang M, et al. Nanoscale, 2020, 12, 16427.
可擴展功能：
拉曼，熒光，熒光壽命及二次諧波
典型實測數(shù)據(jù)：
偏振二次諧波：紅*納米帶
熒光壽命掃描（FLIM）：Cs/FA/MA三陽離子鈣鈦礦
技術支持：化工儀器網(wǎng) 管理登陸 網(wǎng)站地圖
