DVIO-MO系列主動隔振光學平臺主動隔振支撐部分主要包括了被動隔振機構和主動隔振器 DVIA-M，每個支撐里面一般會有 4 個 DVIA-M 系列主動隔振器和一臺主控箱。主動隔振器包含了采集信號的傳感器和消除振動的驅動器，主要消除 0.5-10Hz 的外部振動 , 被動隔振系統部分同時承擔著支撐負載和隔絕高頻率振動的作用。

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更新時間：2024-05-20

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說明：
DVIO-MO系列主動隔振光學平臺為韓國 DAEIL（大一）株式會社生產的主動隔振光學平臺，由臺面和主動隔振支撐兩部分組成。
臺面采用真蜂窩三層夾心式結構，上臺面為 430 系列高導磁不銹鋼，臺面按照25mmX25mm 孔距均布 M6 螺紋孔，方便安裝儀器，每個螺紋孔下方具有獨立的隔離杯，方便清潔。中間是真蜂窩支撐結構，是把 0.25 毫米厚度的鋼板加工成蜂巢的結構，增加了臺面結構的密度，減小體積，采用優良的粘合工藝，堅固耐用。臺面的底部和側板用鋼板作為主體材料，具有非常好的動態和靜態的剛性。
主動隔振支撐部分主要包括了被動隔振機構和主動隔振器 DVIA-M，每個支撐里面一般會有 4 個 DVIA-M 系列主動隔振器和一臺主控箱。主動隔振器包含了采集信號的傳感器和消除振動的驅動器，主要消除 0.5-10Hz 的外部振動 , 被動隔振系統部分同時承擔著支撐負載和隔絕高頻率振動的作用。
這個系列的平臺可以在低頻范圍（0.5-10Hz）提供非常好隔振性能，它可以應用于很多對振動要求非常高，甚至具有挑戰的領域，比如高分辨率的光譜儀、高分辨率電子顯微鏡和精密納米科學研究和制備等。

DVIO-MO系列主動隔振光學平臺特點：
• 具有非常好的隔振性能，特別是在低頻2Hz-10Hz達到90%以上的隔振效率。
• 采用慣性傳感器，可以檢測出六個自由度的振動，并做補償。
• 采用真蜂窩三層夾心式結構臺面，厚度可選100/200/300mm。
• 進口精密主動隔振光學平臺。
• 隔振性能優異，廣泛應用于掃描探針顯微鏡，原子力顯微鏡，掃面隧道顯微鏡，激光干涉儀，半導體檢測設備，三維形貌分析儀和激光共聚焦顯微鏡等。

主動隔振光學平臺技術指標：
• 隔振頻率：0.5~100Hz
• 自動平衡，響應時間短，平衡速度快
• 鋼蜂巢內核：鋼制蜂窩芯，鋼板厚度0.25mm,每個蜂巢面積3.2cm²
• 表面平整度：±0.1mm /600mm×600mm
• 臺面：4.0mm厚度430 系列高導磁不銹鋼
• 底面：4.0mm厚鋼板，表面氧化處理

邊墻板：2.0mm厚鋼板，包裹高阻尼聚乙烯材料
• 孔徑： M6 (英制螺孔可選)
• 孔距：25mmX25mm(英制孔距可選)，最外邊孔距平臺邊緣
37.5mm
• 螺孔密封：每個螺紋孔下方設有柱形隔離杯密封，方便清潔
• 阻尼隔振方式：寬帶阻尼
選型表：